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XRF鍍層測厚儀輻射安全使用須知
2026-6-22
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XRF鍍層測厚儀屬于便攜式X射線熒光分析設備，內置低能量X射線光源，正常合規操作輻射風險極低，但違規開蓋、探頭外露、非正常使用會造成輻射照射。為保障操作人員人身安全、符合實驗室及車間安全規范，特此整理全套輻射安全使用須知，所有上崗人員必須嚴格遵守。一、設備輻射基礎認知1.XRF鍍層測厚儀采用封閉式X射線管，正常測試狀態下設備外殼、探頭防護結構可有效屏蔽射線，合規操作無輻射危害，屬于安全級工業檢測設備。2.設備射線僅在檢測觸發時瞬時輸出，待機、開蓋、暫停狀態下無射線發射，無需過... -
KLA 白光共聚焦顯微鏡日常維護與保養
2026-4-27
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KLA白光共聚焦顯微鏡是高精度三維形貌檢測儀器，廣泛用于半導體、精密零部件、薄膜材料的表面粗糙度、微觀結構與臺階高度測試。儀器光學結構精密、檢測靈敏度高，規范做好日常維護與定期保養，可穩定測量精度、降低故障發生率、大幅延長設備使用壽命。一、整機環境日常養護儀器需放置在恒溫、恒濕、防塵、防震的獨立實驗室環境，避免陽光直射、強氣流與酸堿腐蝕性氣體。控制環境溫濕度在設備要求區間，防止光學部件受潮發霉、金屬部件氧化銹蝕。遠離大型電機、沖壓設備等振動源與強電磁干擾設備，每日清理儀器周邊...
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光學膜厚測量儀樣品制備與測試流程
2026-4-8
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光學膜厚測量儀主要利用光干涉原理對各類薄膜厚度進行非接觸式檢測，樣品制備規范與否、測試流程是否標準，直接決定測量結果的準確性與重復性。一、樣品制備要求樣品表面處理樣品表面應保持清潔、干燥、無油污、無指紋、無灰塵，避免雜質影響光反射與干涉信號。可用無塵布蘸取無水乙醇輕輕擦拭，自然晾干后再進行測試。表面平整度要求被測區域應平整光滑，無明顯劃痕、凸起、針孔或脫落，局部凹凸過大會導致光路偏移，造成讀數偏差。基底與邊緣要求盡量選擇無翹曲、無變形的樣品，測試點避開邊緣崩邊、裂紋及破損區域...
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四探針電阻率測量儀用途、工作原理及使用注意事項
2026-4-4
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四探針電阻率測量儀是一種用于測量各類材料電阻率的精密檢測設備，核心由四探針探頭、信號處理模塊、顯示控制單元組成，采用四探針測量法規避接觸電阻干擾，檢測精度高、操作便捷。該設備可適配半導體、金屬、電解質等多種材料的電阻率檢測，廣泛應用于科研、生產等場景，是材料性能檢測中的重要設備，正確使用和規范維護能保障檢測結果的可靠性和設備使用壽命。電阻率是材料的核心物理特性之一，直接反映材料的導電能力，其測量結果對材料研發、產品質量管控具有重要意義。四探針電阻率測量儀憑借獨特的測量方式，有...
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XRF鍍層測厚儀選型要點總結
2026-3-9
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XRF鍍層測厚儀作為無損檢測領域的核心設備，廣泛應用于電子、五金、電鍍、汽車等行業，用于精準測量金屬、非金屬鍍層的厚度，其選型的合理性直接決定測量精度、使用效率及適配性。為幫助用戶避開選型誤區，精準匹配實際檢測需求，結合XRF鍍層測厚儀的技術特性，總結以下核心選型要點，兼顧實用性與專業性。一、明確檢測核心需求選型的前提是清晰界定自身檢測需求，避免盲目追求高配置造成成本浪費，也防止配置不足無法滿足檢測要求，核心關注3點：鍍層類型與材質：明確被測鍍層是單一鍍層(如鎳層、鉻層、金層...
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光學膜厚測量儀的用途、工作原理與使用注意事項
2026-3-2
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光學膜厚測量儀是一種非接觸、無損檢測薄膜厚度的精密儀器，廣泛應用于半導體、平板顯示、光學鍍膜、光伏及精密制造等行業。它通過分析光與薄膜表面相互作用產生的干涉或反射信號，快速獲取單層或多層薄膜的厚度、折射率等參數，為工藝控制和質量檢驗提供關鍵數據支持。以下從用途、工作原理和使用注意事項三方面進行介紹。一、主要用途光學鍍膜監控：用于增透膜、反射膜、濾光片等光學元件鍍膜過程中的實時或離線厚度檢測，確保光學性能達標。半導體制造：測量光刻膠、氧化層（SiO?）、氮化硅（Si?N?）等薄...
